CEW-2000 交直流熒光磁粉探傷機
CEW — 2000 交直流熒光磁粉探傷機，是適用于鐵磁材料齒輪、棒材、管材、鑄材、軸類等類似形狀的工件多品種、探傷設備，可對工件進行周向、縱向、復合磁化和退磁，周向、縱向、復合均帶斷電相位控制，采用連續法、濕法探傷，一次性磁化全方位顯示磁痕。本機采用 OMRON 工業程序控制器（ PLC 機）控制，全方位退磁，并具有可編程功能，可進行工件夾緊→自動噴液→工件轉動→磁化一次→磁化二次→停止噴液→磁化三次→轉動觀察→退磁→松夾→下料等流水線作業，是多品種產品探傷檢測的理想設備。
主要技術參數如下：
1、周向磁化電流：AC：0～2000A有效值，連續可調，
2、縱向磁化磁勢：DC：0～12000AT有效值，整流全波連續可調；
3、復合磁化電流：周向：AC：0～2000A連續可調，
縱向：DC：0～12000AT整流全波連續可調；
4、靈敏度：15/50A型試片磁痕清晰顯示；
5、退磁磁勢：12000AT～0正負連續衰減；
6、退磁時間：12S；
7、退磁效果：工件表面剩磁量≤0.2MT；
8、電極間距：0～700mm可調；
9、夾持方式：氣動夾緊（氣源自備）；
10、磁粉選用：350目以上熒光磁粉噴灑于工件表面，濃度5～10g/L；
11、熒光照度：距工件表面380mm處，紫外線照度≥1000μw/cm 2
12、儲液箱容積：30L；
13、磁化方式：周向交流、縱向直流、復合磁化；
14、使用電流：三相四線 380V/80A 50Hz（瞬間）；
15、使用環境：溫度-10℃～＋40℃，濕度＜80%，無腐蝕氣體、粉塵和強力高頻干擾；
16、設備尺寸：長1970mm×寬760mm×高1320mm；
17、退磁線圈窗口尺寸：280 mm×280mm ；
17、 設備重量：約 750Kg ；
18、縱向磁化線圈內徑：φ250mm，匝數：5N（兩只線圈串聯）；
19、建議設備按東西方向放置，以消除地球磁場，利于退磁